반도체 제조 공정에 필수 요소인 오염방지 기술이 새롭게 개발돼 주목된다. 신기술은 빛이 닿았을 때 화학적으로 반응하는 오염 물질을 빠르고 효과적으로 제거해 공정 중 다운타임(Downtime·가동중단 시간)도 줄인다.
산업용 첨단 소재 솔루션 업체 인테그리스는 30일 서울 강남구 그랜드인터콘티넨탈호텔에서 기자간담회를 열고 자사가 개발한 '옥토렉스(Oktolex) 박막(멤브레인)' 기술을 선보였다.
신기술은 화학 물질의 특성에 맞게 멤브레인 유형들이 지닌 고유의 원리(메커니즘)를 강화해 광화학적 오염물질을 제거하는 기술이다. 반도체 공정에서 오염물질을 걸러내는 박막(멤브레인)은 반도체 공정 과정 뿐 아니라 발전소 등 오염 물질이 배출되는 모든 곳에서 사용되는 소재다.
신기술은 특정 오염 물질 흡착 메커니즘에 멤브레인의 특성을 일치시킴으로써, 화학적 조성과의 불리한 상호 작용 없이 제거 성능을 최적화한다는 게 인테그리스의 설명이다. 여기에 더해 비트(bit) 당 비용 저감 등의 이점도 발생한다.
특히 이 기술은 클라우드, 사물인터넷(IoT)의 증가 추세로 낸드플래시의 수요가 꾸준히 늘고 있는 가운데 3차원(3D) 낸드 전공정에 활용성이 높을 것이라고 인테그리스는 강조했다.
이날 홍완철 인테그리스코리아 사장은 "에어를 정제해 오염을 방지하는 장비, 혹은 웨이퍼(반도체 재료가 되는 원판)를 운송·보관하는 시스템은 삼성전자나 SK하이닉스에 이미 적용되고 있다"면서 "신기술을 활용해 회사를 성장시킬 것"이라고 밝혔다.
또 클린트 하리스 인테그리스 수석 부사장 겸 제너럴 매니저는 "이번 신기술의 가장 큰 이점은 화학적 조성을 건드리지 않으면서 표적이 되는 오염 물질을 효과적으로 제거하는 멤브레인을 만들 수 있다는 것"이라며 " 이 기술은 동급에서 최강의 여과 기능, 프라이밍 속도 향상과 장비의 다운타임 단축 실현에 기여할 것"이라고 말했다.
관련기사
- 인테그리스, PSS 인수…"기업 가치 높이겠다"2018.01.30
- 인테그리스, 가스 정제기 ‘게이트키퍼’ 국내서 만든다2018.01.30
- 삼성부터 현대까지 국내 기업, 앞다퉈 '생성형AI' 영접하다2024.05.05
- 세계 16위 성능 美 슈퍼컴퓨터, 6.5억원에 팔렸다2024.05.05
2014년 반도체·디스플레이 소재 업체 ATMI를 인수해 꾸준한 성장세를 이어가고 있는 인테그리스는 지난 1990년부터 국내 업체들에 반도체 관련 장비와 부품을 공급하고 있다.
또 국내 지사인 인테그리스코리아는 현재 경기도 화성, 강원도 원주에서 공장을 가동하며 국내와 아시아 시장을 적극 공략 중이다.
