삼성전자, 하이닉스, 인텔, 도시바, TSMC 등 각 분야별 최고 반도체 업체들이 모여 10나노급 반도체 개발 공동 프로젝트가 시작됐다.
17일 니혼게이자이신문은 한국, 미국, 일본, 대만 등 대표 반도체 업체가 모여 오는 2015년말까지 16나노 제조기술 상용화를 목표로 개발을 시작했다고 보도했다. 현재 반도체 공정 기술 한계를 뛰어넘는 프로젝트다.
이번 공동개발 프로젝트는 도시바, 호야 등 일본 기업 11개사가 공동 출자해 만든 EUVL 기반 개발센터(EIDEC)가 주도하고 일본 경제산업성이 지원한다. 이바라키현 츠쿠바시에 연구개발센터도 마련됐다.
프로젝트는 파장이 짧은 극자외선(EUV)를 사용해 회로 선폭을 10나노까지 좁히도록 제조기술을 확보하는 데 목표를 뒀다.
관련기사
- 열전효율 7~8배 높이는 나노소재 개발됐다2011.06.19
- 엘피다의 대반격···세계 첫 25나노D램 양산2011.06.19
- 하이닉스, 30나노 DDR4 D램 개발2011.06.19
- 산업 재편 위기에 내몰려도 정책 실종...미디어 D학점2024.05.27
